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2024-09
mjb4光刻機(jī)
MJB4光刻機(jī)是一款由SUSS MicroTec公司開發(fā)的高性能光刻設(shè)備，廣泛應(yīng)用于微電子、MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）、光電子和納米技術(shù)等領(lǐng)域。MJB4以 ...
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2024-09
雙光子光刻機(jī)
雙光子光刻機(jī)（Two-Photon Lithography, TPL）是一種新興的高分辨率微納制造技術(shù)，廣泛應(yīng)用于微電子、光子學(xué)、材料科學(xué)和生物工程等 ...
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2024-09
啥是光刻機(jī)
光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造中不可或缺的核心設(shè)備，用于將電路設(shè)計(jì)圖案轉(zhuǎn)移到硅片上。其工作原理基于光學(xué)成像技術(shù)，通過對光刻膠的曝光和顯影過程，實(shí)現(xiàn)微細(xì)圖案的制作。 ...
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2024-09
深紫光刻機(jī)
深紫外光刻機(jī)（Deep Ultraviolet Lithography DUV）是現(xiàn)代半導(dǎo)體制造中不可或缺的重要設(shè)備。它利用深紫外光源進(jìn)行電路圖案的曝 ...
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2024-09
幾代光刻機(jī)
光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵設(shè)備，其發(fā)展歷程可分為幾個(gè)重要的代際，隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步，光刻機(jī)的性能和應(yīng)用范圍也在不斷提升。第一代光刻機(jī)第一代光刻機(jī)主要使 ...
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2024-09
黃光光刻機(jī)
黃光光刻機(jī)（也稱為光刻機(jī)）是半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵設(shè)備，主要用于將設(shè)計(jì)的電路圖案轉(zhuǎn)移到硅片上。黃光光刻技術(shù)主要依賴于紫外光進(jìn)行曝光，通常采用的光源波長 ...
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2024-09
光刻機(jī)光路
光刻機(jī)的光路設(shè)計(jì)是其核心技術(shù)之一，直接影響圖形轉(zhuǎn)移的精度和效率。光刻機(jī)的光路主要包括光源、光學(xué)系統(tǒng)、掩模、涂膠層和基片等多個(gè)環(huán)節(jié)，每一個(gè)環(huán)節(jié)都對最終的 ...
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2024-09
光刻機(jī)焦深
光刻機(jī)的焦深（Depth of Focus, DOF）是影響光刻質(zhì)量和分辨率的重要參數(shù)之一。焦深是指在光刻過程中，圖像保持清晰的范圍，即在一定的焦距內(nèi) ...
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2024-09
飛米光刻機(jī)
飛米光刻機(jī)是一種高精度的微納米制造設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電和生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。其核心功能是通過光照射在涂有光刻膠的基板上，形成微米或納米級別的圖案。 ...
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2024-09
雕激光刻機(jī)
雕激光刻機(jī)是一種利用激光技術(shù)進(jìn)行高精度雕刻、打標(biāo)和刻印的設(shè)備。它通過將激光束聚焦到材料表面，產(chǎn)生高能量密度，使材料在局部瞬間蒸發(fā)或熔化，從而實(shí)現(xiàn)所需的 ...
北京科匯華晟技術(shù)開發(fā)有限公司
專業(yè)的國產(chǎn)光刻機(jī)廠家 30年專注光刻機(jī)
