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  • 08
    2024-08

    微流控光刻機(jī)

    微流控光刻機(jī)是一種集成了微流控技術(shù)和光刻技術(shù)的先進(jìn)設(shè)備,主要用于制造微流控芯片及相關(guān)微型結(jié)構(gòu)。微流控技術(shù)涉及在微米級別上精確控制液體流動(dòng),而光刻技術(shù)則 ...

  • 08
    2024-08

    250nm光刻機(jī)

    250nm光刻機(jī),指的是能夠支持250納米(nm)技術(shù)節(jié)點(diǎn)的光刻機(jī)。這種光刻機(jī)在半導(dǎo)體制造中用于在硅晶圓上刻畫電路圖案。250納米是一個(gè)已經(jīng)相對成熟的 ...

  • 08
    2024-08

    芯片只能用光刻機(jī)嗎

    芯片制造是一個(gè)高度復(fù)雜且精密的過程,光刻機(jī)(Lithography Machine)在其中扮演著至關(guān)重要的角色。然而,盡管光刻技術(shù)是目前最主要的制造方 ...

  • 07
    2024-08

    鐳射光刻機(jī)

    鐳射光刻機(jī)(Laser Lithography)是一種新興的光刻技術(shù),它利用激光作為光源來進(jìn)行半導(dǎo)體芯片的圖案轉(zhuǎn)印。這種技術(shù)與傳統(tǒng)的光刻機(jī)技術(shù)相比,具 ...

  • 07
    2024-08

    浸入式光刻機(jī)

    浸入式光刻機(jī)(Immersion Lithography)是現(xiàn)代半導(dǎo)體制造技術(shù)中的一種重要光刻技術(shù),用于實(shí)現(xiàn)更高分辨率的圖案轉(zhuǎn)印。相比傳統(tǒng)的干版光刻技 ...

  • 07
    2024-08

    制造一臺光刻機(jī)

    制造一臺光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造過程中極為復(fù)雜且高精度的任務(wù)。光刻機(jī)作為芯片制造的關(guān)鍵設(shè)備,其制造涉及多個(gè)高科技領(lǐng)域,包括光學(xué)、材料科學(xué)、機(jī)械工程和控制系統(tǒng) ...

  • 06
    2024-08

    光刻機(jī) 廠家

    光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵設(shè)備,其市場主要由幾家領(lǐng)先的制造商主導(dǎo)。這些制造商在技術(shù)創(chuàng)新、生產(chǎn)能力和市場份額方面具有顯著的影響力。1. ASML(荷蘭 ...

  • 06
    2024-08

    極紫光光刻機(jī)

    極紫外光刻機(jī)(Extreme Ultraviolet Lithography, EUV)代表了現(xiàn)代半導(dǎo)體制造領(lǐng)域中的一項(xiàng)突破性技術(shù)。由于其在芯片制造中 ...

  • 06
    2024-08

    7nm的光刻機(jī)

    在半導(dǎo)體制造中,7納米(7nm)工藝節(jié)點(diǎn)標(biāo)志著技術(shù)的重大進(jìn)步,對光刻機(jī)提出了更高的要求。7nm工藝的光刻機(jī)不僅要滿足更高的分辨率要求,還需要具備更高的 ...

  • 05
    2024-08

    一臺duv光刻機(jī)

    深紫外光(DUV)光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵設(shè)備,主要用于制造芯片的電路圖案。DUV光刻機(jī)以其高精度和成熟的技術(shù),廣泛應(yīng)用于28納米及以上的制程節(jié)點(diǎn)。 ...

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