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  • 24
    2024-08

    1950i光刻機(jī)

    1950i光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的重要設(shè)備,它代表了光刻技術(shù)的一個(gè)重要發(fā)展階段。光刻技術(shù)是半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中用于將電路圖案轉(zhuǎn)印到硅晶圓上的關(guān)鍵技術(shù)。19 ...

  • 23
    2024-08

    雙光子三維光刻機(jī)

    雙光子三維光刻(Two-Photon Polymerization, TPP)技術(shù)是一種先進(jìn)的三維納米制造技術(shù),廣泛應(yīng)用于微納加工、光子學(xué)、醫(yī)學(xué)工程等 ...

  • 23
    2024-08

    國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)光源

    國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)光源是半導(dǎo)體制造設(shè)備中至關(guān)重要的組成部分之一,其性能直接影響到光刻技術(shù)的分辨率和生產(chǎn)效率。隨著中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)光源技術(shù)也 ...

  • 23
    2024-08

    微米級(jí)光刻機(jī)

    微米級(jí)光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵設(shè)備之一,其主要功能是將電路圖案精確地轉(zhuǎn)印到硅晶圓上。這種設(shè)備廣泛應(yīng)用于集成電路(IC)的生產(chǎn)中,對(duì)于推動(dòng)電子技術(shù) ...

  • 22
    2024-08

    聯(lián)合精密 光刻機(jī)

    聯(lián)合精密(United Precision)是一家在光刻機(jī)領(lǐng)域較為新興的公司,專注于開發(fā)和生產(chǎn)高精度的光刻設(shè)備。光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵設(shè)備,負(fù)責(zé)將 ...

  • 22
    2024-08

    16nm光刻機(jī)

    在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,光刻機(jī)是將電路設(shè)計(jì)圖案從掩模精確地轉(zhuǎn)印到硅晶圓上的關(guān)鍵設(shè)備。隨著集成電路技術(shù)的發(fā)展,制程節(jié)點(diǎn)不斷向更小尺寸推進(jìn)。16nm制程節(jié)點(diǎn)代表 ...

  • 22
    2024-08

    瑞典 光刻機(jī)

    光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造中至關(guān)重要的設(shè)備,負(fù)責(zé)將集成電路設(shè)計(jì)圖案從掩模精確地轉(zhuǎn)印到硅晶圓上。瑞典,作為科技創(chuàng)新和半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的重要參與者,雖然在全球光刻機(jī)市場(chǎng) ...

  • 21
    2024-08

    亞微米光刻機(jī)

    亞微米光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵設(shè)備,專門用于生產(chǎn)低于1微米(即1000納米)尺度的微小圖案。隨著集成電路技術(shù)的不斷進(jìn)步,對(duì)光刻機(jī)的分辨率和精度要求也 ...

  • 21
    2024-08

    高制程光刻機(jī)

    光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵設(shè)備,負(fù)責(zé)將集成電路設(shè)計(jì)的微小圖案從掩模精確地轉(zhuǎn)印到硅晶圓上的光刻膠層。高制程光刻機(jī)主要用于先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工藝,涉及到更小 ...

  • 21
    2024-08

    40nm光刻機(jī)

    光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造過程中不可或缺的設(shè)備,負(fù)責(zé)將電路設(shè)計(jì)圖案從掩模精確轉(zhuǎn)印到硅晶圓上的光刻膠層。隨著集成電路制造工藝的進(jìn)步,光刻機(jī)的技術(shù)也在不斷發(fā)展。4 ...

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