面板光刻機(jī)是指專(zhuān)門(mén)用于制造平板顯示器（如LCD、OLED等）的光刻設(shè)備。與半導(dǎo)體芯片用的晶圓光刻機(jī)不同，面板光刻機(jī)的主要工作對(duì)象是大面積的玻璃基板，其曝光尺寸可達(dá)到幾十英寸甚至上百英寸，適用于電視、手機(jī)、筆記本、車(chē)載屏等各種顯示產(chǎn)品的生產(chǎn)。
一、工作原理
面板光刻機(jī)的基本原理與晶圓光刻機(jī)相似，都是通過(guò)將掩模（Mask）上的圖案用光學(xué)系統(tǒng)投影到涂有光刻膠的基板（這里是玻璃）上，使光刻膠發(fā)生感光反應(yīng)，經(jīng)過(guò)顯影后得到電路圖案。但由于面板尺寸大、圖案復(fù)雜、線寬較大，其光刻系統(tǒng)在結(jié)構(gòu)和控制策略上做了針對(duì)性優(yōu)化。
常用的是投影式掃描光刻系統(tǒng)，又稱(chēng) Step-and-Scan。其原理如下：
掩模圖案被高強(qiáng)度光源照射（如準(zhǔn)分子激光或紫外LED）；
投影系統(tǒng)將圖案縮小一定比例（通常為1:4）；
光束在面板玻璃上進(jìn)行一段區(qū)域的曝光；
光刻機(jī)逐步移動(dòng)（步進(jìn)+掃描），直到整塊大面板全部曝光完成。
二、工藝流程
清洗玻璃基板：去除塵粒、油污，確保光刻膠均勻附著。
旋涂光刻膠：將光敏膠均勻涂在玻璃表面，厚度通常在1~3微米之間。
軟烘烤：加熱使光刻膠預(yù)干，增強(qiáng)附著力。
自動(dòng)對(duì)位與曝光：核心步驟，通過(guò)CCD系統(tǒng)識(shí)別基準(zhǔn)點(diǎn)進(jìn)行高精度對(duì)位，曝光出微圖案。
顯影：去除光照區(qū)域（或非光照區(qū)域）溶解的光刻膠，形成圖案窗口。
硬烘烤：穩(wěn)定圖案形狀，提高耐蝕刻性。
后續(xù)蝕刻或沉積：依據(jù)圖案進(jìn)行金屬蝕刻或薄膜沉積，形成導(dǎo)線、電極等功能結(jié)構(gòu)。
去膠清洗：清除殘余光刻膠，準(zhǔn)備下一層加工。
一個(gè)完整的面板光刻流程可能需要進(jìn)行多次，配合不同材料（如ITO、電極、液晶配向?qū)樱┩瓿伞?/span>
三、結(jié)構(gòu)特點(diǎn)
大面積曝光能力
面板光刻機(jī)支持G4.5、G6、G8.5甚至G10.5級(jí)別的大尺寸玻璃基板（最大可達(dá)3370mm x 2940mm），這對(duì)平臺(tái)穩(wěn)定性、溫度控制和圖案一致性提出極高要求。
高精度對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)
即使在一米多寬的玻璃上，也需實(shí)現(xiàn)微米級(jí)甚至亞微米級(jí)別的對(duì)準(zhǔn)誤差控制（如±0.5μm），否則會(huì)導(dǎo)致圖案錯(cuò)位，影響顯示效果。
掃描式光路設(shè)計(jì)
采用掃描曝光系統(tǒng)，每次只曝光一個(gè)小區(qū)域，通過(guò)平臺(tái)移動(dòng)完成全圖案曝光，既可控制畸變，又能提高良率。
高亮度光源系統(tǒng)
常用的為準(zhǔn)分子激光（如KrF，248nm）或深紫外LED系統(tǒng)，具有能量密度高、壽命長(zhǎng)、成本相對(duì)較低等優(yōu)勢(shì)。
模塊化平臺(tái)設(shè)計(jì)
為適應(yīng)不同尺寸玻璃、不同工藝流程，現(xiàn)代面板光刻機(jī)平臺(tái)多為模塊化結(jié)構(gòu)，可快速切換加工任務(wù)。
四、核心技術(shù)參數(shù)
曝光分辨率：一般為1~2μm，部分高精度可達(dá)0.8μm，適用于高PPI（如手機(jī)、VR）面板生產(chǎn)。
對(duì)準(zhǔn)精度：通常要求±0.5μm以內(nèi)，對(duì)高世代大尺寸面板尤為關(guān)鍵。
產(chǎn)能（Throughput）：?jiǎn)挝恍r(shí)內(nèi)可完成的面板數(shù)，是評(píng)估生產(chǎn)效率的關(guān)鍵指標(biāo)。
掩?？s比：常見(jiàn)為1:4，1:5或1:6，決定了掩模與面板圖案的關(guān)系。
光源類(lèi)型：KrF、DUV LED、i線等，決定曝光波長(zhǎng)與系統(tǒng)分辨率。
五、代表廠商與產(chǎn)品
當(dāng)前主流面板光刻機(jī)廠商主要包括：
佳能（Canon）：具備豐富的大尺寸光刻機(jī)產(chǎn)品線，全球市占率領(lǐng)先。
尼康（Nikon）：技術(shù)成熟，廣泛應(yīng)用于G6/G8世代產(chǎn)線。
六、發(fā)展趨勢(shì)
高世代線適配：更大尺寸玻璃基板（G10.5及以上）對(duì)設(shè)備提出更高穩(wěn)定性要求。
高分辨率化：支持OLED、高PPI LCD等更高像素密度要求。
AI輔助對(duì)準(zhǔn)與缺陷檢測(cè)：通過(guò)AI算法提升對(duì)位精度和自動(dòng)缺陷識(shí)別能力。
七、總結(jié)
面板光刻機(jī)是顯示面板制造流程的中堅(jiān)力量，負(fù)責(zé)將微米級(jí)圖案精確轉(zhuǎn)印至大尺寸玻璃上。它以高分辨率曝光、高對(duì)準(zhǔn)精度、大面積加工為核心技術(shù)特點(diǎn)，適用于LCD、OLED等主流顯示技術(shù)的制造。
