最新資訊
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2024-12
光電光刻機(jī)
光電光刻機(jī)（Optoelectronic Lithography Machine）是一種結(jié)合了光學(xué)和電子學(xué)技術(shù)的光刻設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、光 ...
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2024-12
新型光刻機(jī)
新型光刻機(jī)代表了半導(dǎo)體制造技術(shù)中最新的技術(shù)發(fā)展，主要體現(xiàn)在光源、光學(xué)系統(tǒng)、對(duì)準(zhǔn)技術(shù)、以及生產(chǎn)效率等方面的重大突破。隨著半導(dǎo)體工藝向更小節(jié)點(diǎn)、更高密度的 ...
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2024-12
高級(jí)光刻機(jī)
高級(jí)光刻機(jī)（Advanced Lithography Machine）是半導(dǎo)體制造過程中至關(guān)重要的設(shè)備之一，它在芯片生產(chǎn)中負(fù)責(zé)將設(shè)計(jì)好的電路圖案精確轉(zhuǎn) ...
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2024-12
自動(dòng)光刻機(jī)
自動(dòng)光刻機(jī)（Automated Lithography Machine）是半導(dǎo)體制造過程中用于圖案轉(zhuǎn)移的一種高精度、高效率的光刻設(shè)備，它能夠自動(dòng)化完成 ...
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2024-12
精密光刻機(jī)
精密光刻機(jī)（Precision Lithography Machine）是半導(dǎo)體制造過程中不可或缺的關(guān)鍵設(shè)備之一，它用于將微細(xì)的電路圖案從光掩模轉(zhuǎn)移到 ...
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2024-12
光刻機(jī)曝光
光刻機(jī)曝光是半導(dǎo)體制造過程中至關(guān)重要的一步，它涉及將圖案從光掩模（Mask）轉(zhuǎn)移到硅片表面上的光刻膠層。光刻機(jī)曝光的過程通過光學(xué)原理、精確的控制系統(tǒng)以 ...
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2024-12
光刻機(jī)汞燈
光刻機(jī)汞燈（Mercury Lamp）是傳統(tǒng)光刻機(jī)中常用的光源之一，尤其在深紫外（DUV）光刻技術(shù)中扮演著關(guān)鍵角色。汞燈主要用于產(chǎn)生紫外光（UV光）， ...
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2024-12
小型光刻機(jī)
小型光刻機(jī)是一種尺寸較小、功能相對(duì)簡化的光刻設(shè)備，通常用于實(shí)驗(yàn)室、教育、研發(fā)及低-volume生產(chǎn)等場景。盡管小型光刻機(jī)在許多方面與工業(yè)級(jí)的大型光刻機(jī) ...
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2024-12
光刻機(jī)suss
SUSS光刻機(jī)是由德國SUSS MicroTec公司生產(chǎn)的一類高精度光刻設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、微電子封裝、MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）、LED（發(fā)光二 ...
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2024-12
euv光刻機(jī)物鏡
EUV光刻機(jī)物鏡（Extreme Ultraviolet Lithography Optics）是極紫外光刻技術(shù)中最關(guān)鍵的組成部分之一。EUV光刻技術(shù) ...