28納米是集成電路制造工藝的一個(gè)重要節(jié)點(diǎn)。該工藝可以制造出性能、功耗、成本等方面都具有良好表現(xiàn)的芯片，廣泛應(yīng)用于智能手機(jī)、服務(wù)器、汽車電子等領(lǐng)域。

2023年12月，上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司成功研發(fā)出28納米浸沒(méi)式光刻機(jī)，并交付給中芯國(guó)際。這標(biāo)志著我國(guó)在高端光刻機(jī)領(lǐng)域取得了重大突破，為我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提供了有力保障。

28納米光刻機(jī)的技術(shù)特點(diǎn)

28納米光刻機(jī)采用ArF浸沒(méi)式光源，NA1.35的透鏡組，可實(shí)現(xiàn)單次曝光38-41nm的分辨率。該光刻機(jī)還采用了多項(xiàng)先進(jìn)技術(shù)，包括：

高精度MVS對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)：MVS對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)采用多視點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)高精度、高重復(fù)性的對(duì)準(zhǔn)。

低畸變投影物鏡：投影物鏡采用先進(jìn)的光學(xué)設(shè)計(jì)技術(shù)，可有效降低光學(xué)畸變。

超精密磁懸浮雙工件臺(tái)和超純水浸入系統(tǒng)：超精密磁懸浮雙工件臺(tái)和超純水浸入系統(tǒng)可提高光刻機(jī)的曝光精度和穩(wěn)定性。

28納米光刻機(jī)的意義

28納米光刻機(jī)的研發(fā)成功具有重要意義：

填補(bǔ)了我國(guó)在28nm浸沒(méi)式光刻機(jī)領(lǐng)域的空白，標(biāo)志著我國(guó)在集成電路制造領(lǐng)域的技術(shù)水平有了重大突破。

為我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提供了有力保障，將推動(dòng)我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展。

有利于我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的自主可控，減少對(duì)國(guó)外光刻機(jī)的依賴。

28納米光刻機(jī)的未來(lái)

28納米光刻機(jī)仍在不斷發(fā)展。上海微電子公司正在積極研發(fā)更高分辨率、更高產(chǎn)量的光刻機(jī)。上海微電子公司還計(jì)劃與國(guó)內(nèi)外企業(yè)合作，建立光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟，共同推動(dòng)我國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

隨著28納米光刻機(jī)的不斷發(fā)展，我國(guó)將有望在高端光刻機(jī)領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)自主可控，為我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提供有力保障。